产品简介：

QPVH/QPV系列隔膜阀，专为需要高精度、高纯度及严苛工作环境的应用场景设计。该系列阀门采用独特的膜片式硬密封结构，实现了超低漏率与长寿命的完美结合，同时具备快速响应能力，可灵活应对各种复杂控制需求。特别适用于原子层沉积（ALD）工艺，能够精细控制气体用量，确保工艺的稳定性和精确度。同时由我司自主研发设计制造的QPVH/QPV系列隔膜阀成功认证通过了国内首台（套）认定，标志着我司在世界领先超洁净阀门技术领域取得重大突破，突破国际技术壁垒并成为国内首个使用原子层沉积（ALD）工艺生产并投入制造的厂家，为国产芯片全产业链自主研发工艺提供了强有力的保障。

产品特点：

一：快速响应与超长使用寿命：QPV/QPVH系列隔膜阀采用先进的设计，响应时间低至20ms，并且确保在快速响应的同时，拥有超长的使用寿命。这得益于其优质的膜片材料和优化的密封结构，即使在高频次操作下也能保持稳定的性能；

二：耐高温执行器：为满足不同工艺对温度的特殊要求，该系列阀门可选配耐高温执行器，确保在高温环境下仍能正常工作，拓宽了应用范围；

三：严格的泄漏测试：每台QPV/QPVH系列隔膜阀均经过单独的氦质谱泄漏测试，确保内漏率和外漏率均达到行业领先水平（≤ 1×10^-10Pa.m³/sec.He），为客户带来生产提高以及产品质量保证；

四：灵活的连接选项：提供模块化表面安装、卡套管对焊和UCR^®端接等多种连接方式，方便用户根据实际需求进行选择和安装，提升了系统的灵活性和便捷性。

主要部件材料：

阀体：316L（VIM+VAR）

膜片：Ni-Co alloy /UNS R30003

密封垫：PFA

主要工作条件：

进口压力：真空至 145psig

工作温度：0~120℃，0~200℃（高温型）

流量系数：0.27/0.62

内漏率：≤ 1×10^-10Pa.m³/sec.He

外漏率：≤ 1×10^-10Pa.m³/sec.He

内表面粗糙度：Ra ≤ 0.13μm